光学レンズ用洗浄剤のご提案
1. 洗浄工程に起因する不良について
光学レンズの製造工程で使用する洗浄剤は、適切なものを選定しないと材質へのダメージや汚れの残留を引き起こします。
目に見えないような汚れの残渣が原因で、後工程のコーティングを行った際に、密着不良、ムラが発生してしまうことが多々あります。
実際の工程や現在発生している問題にあわせた洗浄剤をご提案致します。
ぜひ 横浜油脂工業 にご相談ください。
2. 光学レンズ製造工程と洗浄例
研磨加工まで
製品名 | 対象汚れ | 特徴 |
---|---|---|
OT | ワックス | すすぎ性の高い溶剤ベースの洗浄液。仮固定ワックスの除去に効果あり。 |
GC | ピッチ ワックス |
溶剤ベース。ワックスやピッチの溶解力が非常に高い。 |
LC-2 | 研磨剤 ワックス |
有機アルカリベースの希釈可能な洗浄剤。ワックス除去だけでなく、研磨剤洗浄にも使用可能。 |
NC-211H | 研磨剤 油分 |
レンズへのダメージを抑えた研磨剤除去向け洗浄液。指紋などの有機汚れ除去性にも優れる。 |
L.G.L | 研磨剤 油分 |
強アルカリ性洗浄液。研磨剤の分散性が高く、洗浄力に優れる。 |
芯取り加工から墨塗りまで
製品名 | 対象汚れ | 特徴 |
---|---|---|
ZA-2 | 芯取り油 | 巻き上げ効果で加工油を強力に除去。芯取り加工後の洗浄に最適。 |
M-4 | 芯取り油 指紋等 |
乳化により油分を除去。芯取り後洗浄だけでなく、仕上げ洗浄にも適する。 |
TI-2 | 墨塗り剤 | 墨塗り失敗時のリペアに最適。コートへのダメージを抑制。 |
上記のほか、ガラスレンズのヤケ取り剤や、研磨剤の固着防止剤などもございます。
ご不明点や気になる点がございましたら、お気軽にお問合せください。
3. 洗浄剤の性能特集
● セミクリーン NC-211H
- 主な用途
- レンズの研磨剤やクーラント、芯取油の除去。
- 特徴
- SK材、FK材、LAK材などのダメージが出やすい硝材の洗浄が可能。
アルカリ系の洗浄性を維持しながら、ダメージ抑制を実現。
● 試験例-酸化セリウム除去性比較
⇒ ガラスに酸化セリウムを塗布し、NC-211H(6%)と他社品(6%)で
洗浄比較テストを実施。
試験前 | NC-211H | 他社洗浄液 |
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試験条件
- 3分浸漬洗浄、超音波(44kHz)あり
- 1分純水すすぎ後、乾燥
- 集光器を用いて評価
※ 研磨剤を過剰に塗布
レンズへのダメージを抑えつつ、研磨剤の高分散性を実現!
● セミクリーン ZA-2
- 主な用途
- 芯取加工後の油分除去、仮固定ワックスの除去。
- 特徴
- 芯取油をローリングアップで除去。油分が溶解しにくいため、
液ライフが長い。
引き上げ時に付着した油分も、すすぎ水中で速やかに拡散。
芯取り油を残渣なく、高速に除去可能!
4. セミクリーンの製品につきまして
私たちはこれまでに、液晶パネルや光学レンズの製造工程で使用するような、
工業用の“精密”洗浄剤を多くのお客様にご提案してまいりました。
洗浄力アップやダメージ低減だけでなく、危険物削減などのお手伝いも可能です。